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三星宣布成功完成基于EUV的5nm制程开发彰显科技引领力_[#第一枪]

发布时间:2021-06-07 18:42:32 阅读: 来源:打蛋器厂家

原标题:三星宣布成功完成基于EUV的5nm制程开发 彰显科技引领力

包括7nm批量生产和6nm产品的流片, 三星电子在基于EUV技术的先进制程工艺开发上取得重大进展

4月16日,三星电子宣布,其5nm FinFET( 鳍式场效应晶体管)工艺技术已经开发完成,该技术可实现更小面积的芯片和超低功耗,并已准备好为客户提供样品,再次彰显了其在晶圆代工领域的领导地位。此前,三星已实现7nm工艺的批量生产和客户定制的6nm工艺的产品流片(Tape-out),并将于4月份内实现7nm的出货。

建设中的华城EUV厂鸟瞰图(截止2019年3月)  据悉,与其第一代EUV(极紫外光刻)工艺7nm相比,三星的5nm FinFET工艺技术使芯片内逻辑区域的面积效率可提高到25%,同时降低功耗20%或提高性能10%,从而能够提供更多创新的标准单元架构(Standard Cell)。从7nm转到5nm工艺时, 客户不仅能享受性能、功耗、面积(PPA)上的改进,还可充分利用三星尖端的EUV技术。与前代产品相同,5nm工艺在金属层图案化 (metal layer patterning)中使用了EUV技术,这样可以在减少光罩层的同时,提供更好的保真度。  此外,三星5nm工艺的另一个关键优势,在于可将所有在7nm工艺上开发的知识产权(IP)用于5nm工艺。因此,现有7nm芯片客户在向5nm过渡时,将极大受益于迁移成本的降低和预先验证好的设计环境,从而缩短5nm产品的开发时间。  得益于三星代工厂与其“SAFE(三星晶圆代工生态系统)”合作伙伴的密切合作,自2018年第四季度起,三星已经具备稳定的5nm工艺设计环境,该环境包括PDK(工艺设计工具包)、DM(设计方法)、EDA(电子设计自动化工具)和IP(知识产权)。此外,三星代工厂已开始向客户提供5nm MPW(多项目晶圆)服务。  华城EUV厂的预期鸟瞰图  三星电子(Samsung Electronics)代工业务副社长裴永昌表示:“5nm工艺的成功开发,证明了我们在基于EUV技术的先进节点的研发能力。为了响应客户对先进工艺技术的需求,使其新产品更加出色,我们将继续致力于加速基于EUV技术的先进制程的批量生产。”  同时,裴永昌先生介绍说,考虑到包括PPA和IP在内的各种优势,未来5G、AI(人工智能)、HPC(高性能计算)和自动化等创新领域对EUV技术有大量需求。三星将利用包括EUV技术在内的强大实力,继续向客户提供最先进的技术和解决方案。  据悉,三星已经在韩国华城工厂上线了基于EUV 技术的生产线。此外,三星有计划在2019年下半年将该技术扩大至华城新的生产线,并于第二年进一步增加生产规模。

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